加州大学河滨分校刘晋勇团队EST:水合电子对全氟烷基和多氟烷基物质(PFAS)的脱氟作用:结构依赖性及对PFAS修复和管理的启示
本工作发现对PFOA/PFOS之外的其他PFAS(例如短链类似物或新结构)的化学破坏的研究非常有限。虽然少数研究测试了C4−C9范围 和非线性结构中的单个 PFCA 和 PFSA,关于许多常见的全氟辛烷磺酸的反应性的信息很少,例如含氟端粒和短链酸。因此,必须彻底了解结构间的反应关系,以便开发和评估技术来处理已经释放到环境中的广泛范围的PFAS,以及设计或修改氟化学配方,以防止未来高度顽固的PFAS的释放。
在紫外线照射下,水或特定化学物质可以产生水合电子 。水合电子在还原反应中具有高反应性,在裂解 C−F 键方面表现出优异的性能。最近的研究调查了不同的水合电子来源化学品(例如碘化物、 亚硫酸盐和吲哚 )。水合电子生成策略以及用于PFOA和PFOS脱氟的紫外线照射 ,在水溶液中。在环境温度和弱碱性溶液(即pH9−10)下,很大一部分(50−90%)的C−F键可以从传统的 PFOA和 PFOS以及新兴的 GenX.中裂解。最近报道的等离子体脱氟也是水合电子。尽管如此,用 水和电子处理多种 PFAS 的可行性以及潜在的结构-反应性关系仍然未知。在此,我们报告了 PFAS 脱氟结构依赖性的一系列未经探索但关键的趋势。通过检查具有不同头基和链长度的34种PFAS结构,本研究提供了全面的机制见解,并将为PFAS修复和管理技术和策略的进步做出重大贡献。
Figure 1. Examples of PFAS structures detected in the environment (n indicating the variable length of CnF2n+1 shown in the figure; organic moiety in AFFF surfactants shaded in blue).
Figure 2. Time profiles for PFAS parent compound decay and defluorination. Reaction conditions: PFAS (0.025 mM), Na2SO3 (10 mM), carbonate buffer (5 mM), 254 nm irradiation (18 W low-pressure Hg lamp), pH 9.5 and 20 °C.
Figure 3. Calculated C−F BDEs (kcal mol−1 ) of selected PFASs at the B3LYP-D3(BJ)/6-311+G(2d,2p) level of theory.
Figure 4. Geometry-optimized structure of the adducts of the three n = 6 PFAS anions with an eaq− (PFAS•2−) at the B3LYP-D3(BJ)/6311+G(2d,2p) level of theory.
Figure 5. Representative degradation products from (a) PFOA, (b) PFHpA, (c) PFOS, (d) PFHxS, and (e+f) n = 8 FTCA.
这项研究的结果可以明确地得出一系列关键的环境影响。首先,氟烷基链和-COO-之间的直接连接对于水合电子的还原脱氟非常有利。从修复角度来看,化学和生物反式端粒结构的形成预计会产生PFCA,从而显著提高后续水合电子处理步骤的脱氟效率。从管理角度来看,应谨慎使用具有短氟烷基链的全氟磺酸盐,因为它们与水合电子的反应性较慢且不易氧化。我们强调,混合水成膜泡沫配方的未来设计应认真考虑特定 PFAS 结构的可处理性,以避免对修复工作的抵制。其次,通过优化反应条件(例如,选择用于生成水合电子的化学品、紫外线能量和强度以及异质材料的使用)以及开发具有新颖性的技术,可以预期进一步提高脱氟效果。最后,由于电化学和等离子处理等其他新兴技术也观察到 C6 PFHxS 的降解速度比 C8 PFOS 慢,我们强调有必要检查各种代表性结构,因为PFAS污染现实世界通常呈现为不同结构的混合体。
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